SPETTROMETRO XPS

 

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 ESCA2 Marca/Modello: VG ESCALAB MKII 

Anno di acquisto: 1985

Ubicazione: laboratorio di microscopia elettronica in trasmissione 0C38

http://dipcia.unica.it/superf/

 

 Descrizione:

  • Sorgente di raggi X a doppio anodo Alka e Mgka (0 – 15 kV, 0 – 20 mA, 300 W).
  • Analizzatore emisferico (210 mm) con 5 channel electron multipliers  (installazione 1994)
  • Sorgente di ioni di gas nobili per rimozione in situ di strati di contaminazione e di ossido (E = 0.5-10 keV);
  • Sorgente di ioni di gas nobili per la registrazione di profili di composizione in funzione della profondità e per misure ISS (E = 0.5-5 keV) (installazione 1994);
  • Sorgente di elettroni LEG200 per spettroscopia e microscopia Auger (3-10 keV);
  • Pre-camera per l’introduzione rapida di campioni;
  • Carousel per l’introduzione in camera di analisi fino a sei campioni contemporaneamente;
  • Dimensioni dei campioni: i porta-campioni hanno diametri variabili da 0.5 cm a 2.5 cm ed è possibile analizzare campioni che abbiano un’altezza massima di 1 cm.
  • Tipo di campioni: si possono esaminare campioni conduttori; semi-conduttori ed isolanti sotto forma di: lamine, pastiglie, cristalli, polveri, fili, fibre, nanoparticelle, sistemi multistrato di dimensioni nanometriche. In caso di polveri sono necessari ca. 100 mg di materiale. L’analisi viene eseguita in condizioni di ultra-alto vuoto (P = 10-7 Pa) – dunque, i campioni devono essere stabili a bassa pressione.
  • Possibilità di raffreddare i campioni in camera di analisi con azoto liquido fino alla temperatura di -173°C.
  • Computer ed interfacce per l’acquisizione degli spettri elettronici e delle mappe Auger sotto controllo di computer.

L’apparecchio è stato acquistato a metà degli anni ottanta e da allora è stato migliorato con la sostituzione dell’analizzatore, l’installazione dell’iris per l’analisi in modalità di small-area, nonché la sostituzione del computer e delle interfacce di tutte le unità elettroniche per l’acquisizione degli spettri e dei programmi per la loro elaborazione.

Metodi di analisi:

  • Spettroscopia di fotoelettroni indotta da raggi X (XPS); XPS in risoluzione angolare (ARXPS); XPS di piccole aree (fino a 100 µm di diametro) (SAXPS); profili di composizione in funzione dello spessore di materiale analizzato. La risoluzione di energia è E = 1.0 eV (sorgente Mg) E = 1.1 eV (sorgente Al) (FWHM su Ag 3f5/2, PE = 20 eV.
  • Microscopia di elettroni secondari (SEM), Spettroscopia di elettroni Auger (AES), Microscopia Auger a scansione (SAM); (miglioramento 1994)
  • Spettroscopia di ioni retrodiffusi (ISS); (installazione 2000)

 

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 ESCA2 Brand/Model: VG ESCALAB MKII 

Year of purchase: 1985

Laboratory:  0C38

http://dipcia.unica.it/superf/

Description:

  • X-ray source with double anode Al Ka and Mg Ka (0 – 15 kV, 0 – 20 mA, 300 W).
  • hemispherical analyzer (210 mm) with 5 channel electron multipliers
  • Source of noble gases ions for removal of layers of contaminants and oxide (E = 0.5-10 keV);
  • Source of noble gases ions for the recording of composition profiles as a function of depth and for measures ISS (E = 0.5-5 keV);
  • Electron source LEG 200 for spectroscopy and microscopy Auger (3-10 keV);
  • Pre-chamber to the rapid introduction of samples;
  • Carousel for introduction into the analysis chamber up to six samples simultaneously;
  • Sample sizes: the sample holders have diameters ranging from 0.5 to 2.5 cm and it is possible to analyze samples that have a maximum height of 1 cm.
  • Type of samples: you can examine conductors; semiconductors and nonconductors in the form of: foils, pellets, crystals, powders, wires, fibers, nanoparticles, multilayer systems of nanometric dimensions. In case of dusts are necessary ca. 100 mg of material. The analysis is performed under conditions of ultra-high vacuum (P = 10-7 Pa) – the samples should be stable at low pressure.
  • Possibility to cool the samples in the analysis chamber with liquid nitrogen to a temperature of -173°C.
  • Computer and interfaces for the acquisition of the electronic spectra and maps Auger.

Methods of analysis:

  • Photoelectron spectroscopy induced by X-rays (XPS); XPS angular resolution (ARXPS); XPS of small areas (up to 100 µM in diameter) (SAXPS); composition profiles in function of the thickness of E = 1.0 eV. The energy resolution is E = 1.1 eV (source Al) (FWHM Ag 3fDMg) 5/2, PE = 20 eV.
  • Microscopy of secondary electrons (SEM), Electron spectroscopy Auger (AES), Scanning Auger Microscopy (SAM);
  • Spectroscopy of ions backscattered (ISS).

 

 

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